在铜电解沉积 (CuEW) 中,限制酸雾产生的最常见的工程控制是化学品 FC-1100。3M 最近宣布计划停止 FC-1100 的生产。这使得 CuEW 储罐迫切需要找到合适且可持续的替代品。任何 FC-1100 替代品都可能因与溶剂萃取化学品相互作用而导致操作风险。
ChemShi酸雾抑制剂NF-100是一种含氟化学添加剂,可在铜电解槽中提供出色的硫酸雾抑制效果,而不会在电解槽表面形成稳定的泡沫层。当单独使用或与机械屏障(如聚丙烯大球)结合使用时,NF-100抑制剂可以显著降低储罐酸雾水平,对溶剂提取或电积过程没有不利影响。
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